フィルタードアーク方式DLCの話
今回はフィルタードアーク装置(※以後FAD装置)と、
これで得られるta―C(水素フリー)DLC膜「AC-X」、「AC-X・W」、「AC-X・X」の説明をします。
FAD装置
下図はFAD装置を上部から見たものです。
このシステムはアークイオンプレーティング方式の欠点、ドロップレット(※1)を減らす事が目的です。
※1・・・ドロップレットとは、アーク放電で材料をイオン化する際に発生する、イオン化されない材料のことです。
膜に混入し硬度低下、面粗度低下、ピンホールの原因となります。
FADでは、カーボンイオンは磁場によるフィルターで90°曲げられDLC成膜します。
ドロップレットは磁場の影響を受けずに直進するため、ダストボックスに堆積します。
成膜成分が減少するので、成膜スピードは遅くなります。成膜温度は150℃程です。
これにより得られるDLC膜はダイヤモンド構造が多く、
高硬度(Hv7000)で平滑性が高いta―C(テトラへドラルアモルファスカーボン)です。
原料にグラファイトを使うため、水素を含みません(水素フリーDLC膜)。
DLC膜 (AC-X、AC-X・W、AC-X・X)
コーティング向け基材は超硬を推奨しております。
これは、基材と膜との硬度差による、基材の変形からの剥離のリスクを防ぐためです。
お客様からご好評を頂いている分野は、
電子部品リードで多用される銅加工、車関係で多用されるアルミ加工の工具金型で
使用目的は、耐凝着摩耗防止です。
ta―C(水素フリー)DLCの膜種は以下の3種類です。
AC-X:膜厚0.5μm程度 ※硬さと膜厚のバランスがとれた標準膜。
AC-X・W:AC-Xの厚膜仕様0.7μm程度※衝撃がかかる用途には向きません。
AC-X・Ⅹ:膜硬度を少し低下させた仕様で膜厚1μm程度。
ta-C希望のお客様にはまず「AC-X」をお勧めしております。
オンワード技研は、ta―C(水素フリー)DLC膜を安定して供給できる、数少ない受託コーティングメーカーと自負しております。
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